די עלעקטראָן שטראַל יוואַפּעריישאַן אופֿן איז אַ מין פון וואַקוום יוואַפּעריישאַן קאָוטינג, וואָס ניצט עלעקטראָן בימז צו גלייך היץ די יוואַפּעריישאַן מאַטעריאַל אונטער וואַקוום טנאָים, וואַפּאָריזע די יוואַפּעריישאַן מאַטעריאַל און אַריבערפירן עס צו די סאַבסטרייט, און קאַנדענס אויף די סאַבסטרייט צו פאָרעם אַ דין פילם. אין די עלעקטראָן שטראַל באַהיצונג מיטל, די העאַטעד מאַטעריע איז געשטעלט אין אַ וואַסער-קולד קרוסיבלע, וואָס קענען ויסמיידן די אָפּרוף צווישן די יוואַפּעריישאַן מאַטעריאַל און די קרוסיבלע וואַנט און ווירקן די קוואַליטעט פון די פילם. קייפל קרוסיבלעס קענען זיין געשטעלט אין די מיטל צו דערגרייכן סיימאַלטייניאַס אָדער באַזונדער יוואַפּעריישאַן און דעפּאַזישאַן פון פאַרשידן סאַבסטאַנסיז. מיט עלעקטראָן שטראַל יוואַפּעריישאַן, קיין מאַטעריאַל קענען זיין יוואַפּערייטיד.
עלעקטראָן שטראַל יוואַפּעריישאַן קענען יוואַפּערייט הויך-מעלטינג פונט מאַטעריאַלס. קאַמפּערד מיט אַלגעמיין קעגנשטעל באַהיצונג יוואַפּעריישאַן, עס האט העכער טערמאַל עפעקטיווקייַט, העכער שטראַל קראַנט געדיכטקייַט און פאַסטער יוואַפּעריישאַן גיכקייַט. פילם און פילם פון פאַרשידן אָפּטיש מאַטעריאַלס אַזאַ ווי קאַנדאַקטיוו גלאז.
די כאַראַקטעריסטיש פון עלעקטראָן שטראַל יוואַפּעריישאַן איז אַז עס וועט נישט אָדער ראַרעלי דעקן די צוויי זייטן פון די ציל דריי-דימענשאַנאַל סטרוקטור, און יוזשאַוואַלי בלויז דיפּאַזאַץ אויף די ציל ייבערפלאַך. דאָס איז דער חילוק צווישן עלעקטראָן שטראַל יוואַפּעריישאַן און ספּאַטערינג.
עלעקטראָן שטראַל יוואַפּעריישאַן איז קאַמאַנלי געניצט אין די פעלד פון סעמיקאַנדאַקטער פאָרשונג און אינדוסטריע. די אַקסעלערייטיד עלעקטראָן ענערגיע איז געניצט צו שלאָגן די מאַטעריאַל ציל, קאָזינג די מאַטעריאַל ציל צו יוואַפּערייט און העכערונג. יווענטשאַוואַלי דאַפּאַזיטיד אויף די ציל.
פּאָסטן צייט: דעצעמבער 02-2022